半导体opc是什么?

半导体OPC是光学邻近校正技术，用于解决光刻过程中图形变形问题。光刻机光线衍射会导致线条变粗或断裂，OPC通过修改电路设计图案补偿误差。工程师在芯片设计阶段加入辅助图形，如线头伸出或尺寸调整，确保最终图形符合要求。这项技术对制造纳米级芯片至关重要，没有它就无法生产先进处理器。

OPC的应用场景

OPC技术广泛应用于7纳米以下芯片制造。台积电和三星用OPC生产手机处理器，英特尔用它制造电脑CPU。光刻机每曝光一次，OPC软件就要计算数百万个图形修正点。一块高端芯片可能需要上千次OPC优化，耗时数天。这项技术直接决定芯片性能，是半导体行业的核心工艺之一。