时间:01-18人气:24作者:半萌半可爱
高端溅射靶材是用于物理气相沉积的高纯度材料,主要制造芯片、显示器和太阳能电池。这类靶材纯度要求极高,一般达到99.999%以上,杂质少才能保证薄膜质量。常见材料有金属靶(铜、铝)和陶瓷靶(氧化铟锡),形状多为圆形或矩形。高端靶材需要均匀的晶粒结构和致密性,确保溅射时稳定释放原子。
高端溅射靶材的应用
高端溅射靶材广泛应用于半导体和光伏行业。例如,在芯片制造中,铜靶用于互连线路;ITO靶则用于触摸屏导电层。靶材性能直接影响产品良率,因此价格昂贵,单块靶材价值可达数十万元。使用过程中,靶材表面会形成凹坑,需要定期更换。高端靶材的供应商包括日本东曹和德国贺利氏,技术门槛高。
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