时间:01-19人气:25作者:一醉弃天下
中国芯片制造工艺已达到7纳米水平,部分企业正在研发5纳米技术。中芯国际是主要生产商,其N+2工艺接近7纳米。华为海思设计的麒麟芯片也采用7纳米工艺。国内还有企业攻关14纳米成熟工艺,满足汽车电子等需求。芯片制造依赖光刻机,国产28纳米光刻机已投入使用,7纳米仍需进口设备。
技术突破难点
芯片制造涉及光刻、刻蚀、薄膜沉积等环节,每步精度要求极高。7纳米工艺需要极紫外光刻机,目前全球仅ASML能生产。国内企业通过多重曝光技术实现7纳米,但成本高、产量低。材料方面,光刻胶、大硅片等仍依赖进口。人才短缺也是问题,高端工程师培养周期长。国产化替代需要产业链协同,单点突破不够。
注意:本站部分文字内容、图片由网友投稿,如侵权请联系删除,联系邮箱:happy56812@qq.com