真空电镀与真空镀膜区别?

真空电镀和真空镀膜都是表面处理技术，但应用和工艺不同。真空电镀侧重于金属镀层，如铝、铬等，常用于装饰或防护；真空镀膜范围更广，包括金属、非金属材料，用于光学、电子等领域。两者都在真空环境中进行，但镀膜技术更灵活，适应更多材料需求。

区别

真空电镀：主要针对金属镀层，工艺简单，成本较低，适合大批量生产。常见于手机外壳、汽车配件等装饰性应用，镀层厚度约0.5-10微米，光泽度高，但耐磨性一般，长期使用易划伤。

真空镀膜：涵盖材料更广，包括金属、氧化物、氮化物等，工艺复杂，精度高。常用于镜片、显示屏等功能性产品，镀层厚度可达几十微米，性能稳定，耐腐蚀、耐高温，但成本较高，生产周期较长。