光刻机和刻蚀机的区别?

光刻机是制造芯片时，将电路图案精确转移到晶圆上的设备；刻蚀机则是去除晶圆上不需要的材料，形成电路结构。两者分工不同，光刻负责“画图”，刻蚀负责“雕刻”，共同完成芯片制造的关键步骤。

区别

光刻机：通过光线和掩模版，将微缩电路图案“印刷”到晶圆表面。精度极高，能刻画出纳米级线条，相当于给芯片“画蓝图”。一台先进光刻机包含复杂的光学系统，价格可达数亿元，是芯片制造的“笔”。

刻蚀机：用化学或物理方法“雕刻”晶圆，移除多余材料，形成立体电路结构。它像一把“纳米刻刀”，能精准控制深度和形状。刻蚀机分为干法（等离子体）和湿法（化学液体），前者精度更高，后者成本更低。